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| 品名 |
英文名 |
分子式 |
级别 |
| SL |
UL |
VL |
EL |
| 过氧化氢 |
Hydrogen Peroxide,30% |
H2O2 |
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| 硫酸 |
Sulfuric Acid |
H2SO4 |
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| 盐酸 |
Hydrochloric Acid |
HCL |
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| 硝酸 |
Nitric Acid,70% |
HNO3 |
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| 品名 |
英文名 |
型号 |
| 负→胶显影液 |
Negative Photoresist Developer |
FX-C型 |
| 负胶显影液 |
Negative Photoresist Developer |
FX-D型 FX-2D型 |
| 负胶漂洗液 |
Negative Photoresist Rinse |
FP-01型 |
| 负胶显影漂洗液 |
Negative Photoresist Developer and Rinse |
MD-B型、MD-C型 |
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